Workbench(ワークベンチ)が Depth Of Field(被写界深度)に対応。(Clément Foucault 氏)
スカルプト:Topology Rake(トポロジーレーキ)を追加。ペイント中にブラシ方向に辺を揃えます。これは Dynamic Topology での綺麗なトポロジーの生成とシャープな部分の指定に役立ちます。 比較的ローポリなメッシュでの使用が最適で、高細度な部分かつ(データ量において)パフォーマンスインパクトのある場合はあまり有用ではありません。(Jean Da Costa 氏)
macOS: OpenMP に対応、smoke/fluid/cloth シミュレーションが速くなります。これで macOS での動作が Windows や Linux と同等になります。(Arto Kitula 氏)